Iontové pokovování využívá výboj plynu ve vakuu k ionizaci plynu nebo odpařeného materiálu. Při bombardování plynovými ionty nebo ionty odpařujícího se materiálu se odpařený materiál nebo jeho reaktanty ukládají na obrobek. Patří sem iontové pokovování magnetronovým naprašováním, reaktivní iontové pokovování, iontové pokovování s dutou katodou (odpařování duté katody) a více{2}}obloukové iontové pokovování (katodové obloukové iontové pokovování). Iontové pokovování kombinuje technologii doutnavého výboje a plazmové technologie s vakuovým napařováním, což výrazně zlepšuje výkon povlaku a rozšiřuje jeho použití. Kromě sdílení výhod vakuového naprašování nabízí iontové pokovování silnou adhezi filmu, vynikající difrakční vlastnosti a širokou škálu pokovovacích materiálů.
V důsledku toho zaznamenala v posledních letech rychlý rozvoj jak na domácím, tak mezinárodním trhu. Základním principem iontového pokovování je ionizace par kovu nebo slitiny pomocí doutnavého nebo obloukového výboje z inertního plynu. Iontové pokovování zahrnuje zahřívání, odpařování a nanášení povlakového materiálu (jako je TiN a TiC).
Když atomy odpařeného povlakového materiálu procházejí žhnoucí zónou, malá část se ionizuje a pod vlivem elektrického pole letí směrem k obrobku a naráží na povrch energiemi několika tisíc elektronvoltů. Mohou proniknout substrátem do hloubky několika nanometrů, čímž výrazně zlepšují přilnavost nátěru. Unionizované atomy odpařeného materiálu se přímo ukládají na obrobek a vytvářejí film. Rozprašování iontů inertního plynu a iontů povlakového materiálu na povrch obrobku rovněž odstraňuje nečistoty, čímž se zlepšuje adheze.
Technologie používané iontově vakuovými lakovacími stroji, odpařovacími lakovacími stroji a magnetronovými naprašovacími lakovacími stroji jsou různé. Tyto principy technologie povlakování mají také své výhody. Různé metody potahování lze vybrat podle potahovaného obrobku a vrstvy filmu, aby vyhovovaly poptávce trhu.
