Zařízení na rozprašování magnetron je složeno hlavně z následujících částí:
1. Cílový materiál: Jádro složka zařízení magnetronu, obvykle vyrobená z kovu, slitiny a jiných materiálů.
2. vakuová komora: Provozní prostředí magnetorového rozprašovacího zařízení je třeba provádět za vysokých vakuových podmínek a vakuová komora hraje roli při udržování vakua.
3. Magnetron System: Magnetické pole se používá k řízení iontového bombardování na povrchu cílového materiálu, aby způsobilo rozprašování.
4. Substrátový rám: Používá se k podpoře substrátového materiálu, který má být zpracován.
5. Vytápěcí systém: V některých případech je třeba zahřívat cílový materiál a substrát, aby bylo možné ovládat proces rozprašování.
